半導體拋光廢水處理與回用是半導體制造過程中的一個重要環節，因為這種廢水含有多種污染物，如懸浮物、有機物、金屬離子等。有效的處理和回用不僅可以減少對環境的影響，還可以節約寶貴的水資源。下面依斯倍將介紹半導體拋光廢水處理回用工藝的文章概要。

半導體拋光廢水的處理通常包括預處理、深度處理和回用幾個階段。以下是一些常用的處理技術：

1. 預處理

  - pH調節：通過加入酸或堿來調節廢水的pH值，使之接近中性。

  - 混凝沉淀：使用混凝劑（如聚合氯化鋁PAC、硫酸亞鐵等）和助凝劑（如聚丙烯酰胺PAM）促使懸浮物形成較大的絮體，便于沉淀。

2. 深度處理

  - 高級氧化：例如臭氧氧化、Fenton反應等，用于去除難降解有機物。這是半導體拋光廢水處理常用的方法之一。

  - 膜分離：如反滲透（RO）、納濾（NF）等，用于去除溶解性固體。

  - 離子交換：用于去除金屬離子。

3. 回用

  - 再生水回用：經過處理達標的廢水可以循環使用，減少水資源的需求。

半導體拋光廢水處理與回用是一個復雜的過程，需要綜合考慮廢水的具體特性和目標處理效果來選擇最合適的處理工藝。隨著技術的進步，更高效、更環保的處理方法正在不斷被開發出來，以滿足日益嚴格的環保要求和實現水資源的最大化利用。