半導體生產過程中的廢水處理成為制約行業綠色發展的一大難題，這類廢水含重金屬、有機溶劑、氟化物等有害物質，對自然水體會造成嚴重污染。因此，進行有效的廢水處理是至關重要的。本文依斯倍將介紹半導體行業廢水的特點以及半導體行業廢水處理的工藝。

半導體制造過程中產生的廢水成分復雜，主要包括：

- 含氟廢水：源自蝕刻、清洗過程，含有高濃度氟化物。

- 含重金屬廢水：來自鍍膜、蝕刻等步驟，含有銅、鎳、鉛等重金屬。

- 有機溶劑廢水：清洗劑、顯影劑等使用后產生的有機物污染。

- 氨氮廢水：光阻去除過程產生的氨氮類污染物。

半導體行業廢水處理關鍵技術

含氟廢水處理

- 化學沉淀法：加入石灰乳等沉淀劑，生成氟化鈣沉淀。

- 吸附法：使用活性碳、沸石等吸附材料去除氟離子。

 含重金屬廢水處理

- 電沉積法：利用電化學反應，使重金屬在陰極析出。

- 離子交換：通過離子交換樹脂吸附重金屬離子后再生樹脂回收。

有機溶劑廢水處理

- 高級氧化工藝：如芬頓氧化、臭氧氧化，高效分解有機物。

- 生物降解：針對可生物降解有機物，采用活性污泥或生物膜技術。

氨氮廢水處理

- 硝化反硝化：通過微生物作用，將氨氮轉化為氮氣排放。

半導體行業廢水處理與循環利用是一個系統性工程，需要跨學科合作，不斷探索新技術、新策略，以期在保障環境質量的同時，支撐半導體行業的持續健康發展。